香川大学 微細構造デバイス研究開発センター
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研究設備

当センターはシリコン等を素材とする各種のマイクロセンサ・アクチュエータを実現する製造プロセス・評価装置一式を備えたワンストップ型の研究開発組織です。
特に,平成26年度より稼働開始したイオン注入装置はシリコンの電気物性を自在にコントロール可能とする不純物注入制御を高精度に実施することが可能です。本設備を利用可能な研究機関は日本でも数少なく,本センターのMEMS研究開発設備の大きな特徴の一つとなっています。

香川大学工学部総合研究棟6階

実験室名 装置名 PHOTO メーカー名 型式
イエロールーム 電子線描画装置
ELIONIX ELS-7500EX
両面マスクアライメント装置 Union光学 PEM-800
マスクレス露光装置 大日本科研社製 MX-1204
片面マスクアライナ ミカサ社製 MA-10型
ドラフトチャンバ(有機) DALTON社製
ドラフトチャンバ(無機) DALTON社製
クリーンルーム イオン注入装置 フジ・インバック MK120-S
ナノインプリント装置 SCIVAX X-200series
真空蒸着装置 ULVAC社製 VPC-1100
デュアルイオンビームスパッタ装置 ハシノテック社製 10W-IBS
分析測定室 触針式表面形状測定器Dektak アルバック Decktak8
白色干渉形状測定装置Wyko ブ3ー・エイッ昇スエス社 NT91001A
ミツ[粗さ測定器 ミツトヨ SV-600
走査電子顕微鏡(SEM) JEOL JSM-6060KU
イオンコータ JEOL JFC-1600
三次元計測装置 三鷹光器 NH-3N
ハイロックス顕微鏡 HiROX KH-7700
エリプソメータ(光学実験室)
ウエハプローバー・アナライザ 理ル・ズース社 PM5 他
デバイス加工室 ウェハダイシング装置 DISCO DAD3220
NC加工機 Roland MDX-40


香川県科学技術研究センター(FROM香川)
実験室名 装置名 PHOTO メーカー名 型式
イエロールーム シリコン深堀エッチング装置※ SPPテクノロジーズ社製 MUC-21 ASE Pegasus
RIE装置(ドライエッチング装置) SAMCO RIE-10NR
両面マスクアライナ※ ズース・マイクロテック社製 MA6 / BA6
レジストスピンコータ Mikasa 1H-DX2
スパッタ蒸着装置 アネルバ L-3328-FH
ドラフトチャンバ(有機) DALTON社製 PAU-1600BEW(有機)
ドラフトチャンバ(無機) DALTON社製 BCD-1-1600BEW(無機)
クリーンルーム 不純物拡散炉(N型・P型) DSL VESTA-2100
シリコン熱酸化炉 DSL VESTA-2100
イオンシャワー エリオニクス社製 EIS-200ER
ワイヤボンダ※ WEST・BOND社製 Model 7KE
4深針型薄膜抵抗率計 エヌピイエス社製 KS-TC-40-SB-VR

※香川県保有装置
Profile
香川大学微細加工プラットフォーム

香川大学
 微細加工プラットフォーム

■香川大学工学部

■香川県科学技術研究センター(FROM香川)



ランニングの基礎知識
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